特許
J-GLOBAL ID：200903048785244069
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-133205
公開番号（公開出願番号）：特開2006-018229
出願日： 2005年04月28日
公開日（公表日）： 2006年01月19日
要約：
【課題】 高感度、高解像性であり、倒れマージン、PEBマージンに優れる化学増幅型のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】 (A)樹脂成分、および(B)酸発生剤成分を含有し、前記(A)成分が、酸解離性溶解抑制基を含むモノ(α-低級アルキル)アクリルレート系構成単位(a1)、ラクトン環を有するモノ(α-低級アルキル)アクリルレート系構成単位(b1)、及び下記一般式(1)で表されるポリ(α-低級アルキル)アクリルレート系構成単位(c1)を有する共重合体であるポジ型レジスト組成物。【化1】 (式中、Rは低級アルキル基または水素原子であり、R11、R12はそれぞれ独立して低級アルキル基であり、nは1〜5の整数であり、Aは2〜6価の有機基である。)【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分、および(B)放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分を含有するポジ型レジスト組成物であって、
前記(A)成分が、酸解離性溶解抑制基を含むモノ(α-低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)、ラクトン環を有するモノ(α-低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(b1)、及び下記一般式(1)で表されるポリ(α-低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(c1)を有する共重合体であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025FA01
, 2H025FA12
