露光方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤元亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-077476
公開番号（公開出願番号）：特開2003-273008
出願日： 2002年03月20日
公開日（公表日）： 2003年09月26日
要約：

【要約】【課題】投影光学系の光学特性又は投影光学系に対するウェハの相対位置の補正の信頼性を簡易な構成で高める露光方法及び装置を提供する。【解決手段】レチクルと基板を同期走査させながら、前記レチクルに形成されたパターンの像を投影光学系を介して前記基板上に露光する露光方法において、前記レチクルの面形状を露光する位置にて測定して補正データとして保持するステップと、前記補正データに基づいて、前記同期走査を制御するステップと、前記レチクルの前記面形状の測定を繰り返して前記補正データを更新するステップとを有することを特徴とする露光方法を提供する。

請求項（抜粋）：

レチクルと基板を同期走査させながら、前記レチクルに形成されたパターンの像を投影光学系を介して前記基板上に露光する露光方法において、前記レチクルの面形状を露光する位置にて測定して補正データとして保持するステップと、前記補正データに基づいて、前記同期走査を制御するステップと、前記レチクルの前記面形状の測定を繰り返して前記補正データを更新するステップとを有することを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/22

FI (3件)：

G03F 7/22 H , H01L 21/30 516 A , H01L 21/30 518

Fターム (5件)：

5F046BA05 , 5F046CC05 , 5F046DA13 , 5F046DA14 , 5F046DD03

引用特許：

審査官引用 (9件)

走査露光方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-305616 出願人：株式会社ニコン
走査型露光方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-199890 出願人：株式会社ニコン
投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-173784 出願人：株式会社ニコン

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