成膜処理装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅井章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-351801
公開番号（公開出願番号）：特開平9-186112
出願日： 1995年12月27日
公開日（公表日）： 1997年07月15日
要約：

【要約】【課題】構造簡単な成膜用の載置台を有する成膜処理装置を提供する。【解決手段】真空引き可能になされた処理容器56内の載置台68上に載置した被処理体Wに、熱CVDにより薄膜を形成する成膜処理装置において、前記載置台は、薄板上の非導電性のセラミックスの中にチャック用電極77を埋め込んでなる静電チャック78と、抵抗発熱体76を有する非導電性のセラミックスよりなる載置台本体132とを接合して構成する。これにより、載置台自体の構造を簡単化する。

請求項（抜粋）：

真空引き可能になされた処理容器内の載置台上に載置した被処理体に、熱CVDにより薄膜を形成する成膜処理装置において、前記載置台は、薄板上の非導電性のセラミックスの中にチャック用電極を埋め込んでなる静電チャックと、抵抗発熱体を有する非導電性のセラミックスよりなる載置台本体とを接合して構成されていることを特徴とする成膜処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/285 , C23C 16/44 , H01L 21/205 , H01L 21/68 , H01L 21/3205

FI (5件)：

H01L 21/285 C , C23C 16/44 H , H01L 21/205 , H01L 21/68 R , H01L 21/88 N

引用特許：

審査官引用 (10件)

ウエハー加熱装置及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-303289 出願人：日本碍子株式会社
ガス処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-179845 出願人：東京エレクトロン株式会社
気相成長装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-026352 出願人：株式会社東芝

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