特許
J-GLOBAL ID：200903051129719051

重合方法

発明者：
中川 佳樹

中川 佳樹 について

, 
大野 重樹

大野 重樹 について


出願人/特許権者：
鐘淵化学工業株式会社

鐘淵化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 安富 康男 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-153709
公開番号（公開出願番号）：特開2000-072809
出願日： 1999年06月01日
公開日（公表日）： 2000年03月07日
要約：
【要約】【課題】 本発明は、原子移動ラジカル重合において、末端ハロゲン基を高率で残存させ、触媒の沈降や触媒量の変化による重合速度の調整が困難である等の問題を解決し、容易で安全な重合の開始方法を提供し、重合速度の制御方法を提供し、重合方法の改善法を示す。【解決手段】 ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合を、以下の(1)、(2)、(3)及び(4)からなる群から選択される少なくとも一つの条件下において行なうことを特徴とする重合方法である。(1)実質的に脱水条件下、(2)ニトリル化合物存在下、(3)重合触媒の配位子を系中に添加して重合を開始する、(4)重合中に重合触媒の活性を変化させて重合速度を制御する。
請求項（抜粋）：
ビニル系モノマーの原子移動ラジカル重合を、以下の(1)、(2)、(3)及び(4)からなる群から選択される少なくとも一つの条件下において行なうことを特徴とする重合方法。(1)実質的に脱水条件下(2)ニトリル化合物存在下(3)重合触媒の配位子を系中に添加して重合を開始する(4)重合中に重合触媒の活性を変化させて重合速度を制御する
IPC (4件)：
C08F 4/60 ,  C08F 2/00 ,  C08F 2/44 ,  C08F 20/02
FI (5件)：
C08F 4/60 ,  C08F 2/00 Z ,  C08F 2/00 A ,  C08F 2/44 B ,  C08F 20/02
引用特許：
審査官引用 (13件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)
  • Macromolecules, 1997, 第30巻, 第25号, 第7697頁-第7700頁

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