特許
J-GLOBAL ID：200903051288553091

外観検査方法および外観検査装置

発明者：
岡 健次

岡 健次 について

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前田 俊二

前田 俊二 について

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野口 稔

野口 稔 について

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見坊 行雄

見坊 行雄 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-253934
公開番号（公開出願番号）：特開2000-088563
出願日： 1998年09月08日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：
【要約】【課題】 外観検査における欠陥分類時間を短縮することのできる技術を提供すること。【解決手段】 ステージ走査を用いて画像を検出する方式において、検査処理を行う低倍率な画像検出と同時に、欠陥分類に必要な高倍率の画像も検出可能な構成とすることで、検査終了後に欠陥部の画像を再検出することなく、効率のよい検査を可能とする。
請求項（抜粋）：
試料を相対的に走査しながら第1の検出条件で得られる検出信号を処理して欠陥を検知し、上記第1の検出条件とは異なる第2の検出条件で同時に得られる検出信号から、欠陥部の検出信号を抽出して保管することを特徴とする外観検査方法。
IPC (6件)：
G01B 21/30 ,  G01N 21/88 ,  G03F 1/08 ,  G06T 7/00 ,  H01J 37/22 502 ,  H01L 21/66
FI (9件)：
G01B 21/30 Z ,  G01N 21/88 J ,  G03F 1/08 S ,  H01J 37/22 502 Z ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/66 Z ,  G01N 21/88 630 A ,  G01N 21/88 645 Z ,  G06F 15/62 400
引用特許：
審査官引用 (26件)
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