特許
J-GLOBAL ID：200903051878129554

LPP型EUV光源装置

発明者：
菅沼 崇

菅沼 崇 について

, 
阿部 保

阿部 保 について


出願人/特許権者：
株式会社小松製作所

株式会社小松製作所 について

, 
ギガフォトン株式会社

ギガフォトン株式会社 について


代理人 (3件)： 宇都宮 正明 ,  渡部 温 ,  柳瀬 睦肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-089287
公開番号（公開出願番号）：特開2005-276671
出願日： 2004年03月25日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
【課題】 LPP型EUV光源装置において、ターゲット材料の量を増加させることなくEUV光量を増加させる。 【解決手段】 ターゲットへのレーザ光集光を楕円集光とし、楕円の長軸方向とターゲット流れ方向とをほぼ一致させ、楕円の短軸方向長さをターゲット太さと同等又はそれ以下とする。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
ノズルから連続流れとして噴射されたターゲット材料に、レーザ発振器から出力されたレーザ光を集光して照射することにより、前記ターゲット材料をプラズマ化させてEUV光を放射させるEUV光源装置であって、 前記レーザ発振器から出力されたレーザ光の断面形状を、前記ターゲット材料の噴射方向に引き伸ばされた形状に変形すると共に、断面形状が変形されたレーザ光を前記ターゲット材料に照射する光学系を具備するLPP型EUV光源装置。
IPC (3件)：
H05G2/00 ,  H01L21/027 ,  H05H1/24
FI (3件)：
H05G1/00 K ,  H05H1/24 ,  H01L21/30 531S
Fターム (3件)：
4C092AA06 ,  4C092AB21 ,  5F046GC03
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (9件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM