特許
J-GLOBAL ID：200903052680475879
微細構造乾燥処理方法及びその装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-090711
公開番号（公開出願番号）：特開2005-277230
出願日： 2004年03月26日
公開日（公表日）： 2005年10月06日
要約：
【課題】 本発明の目的は、基板上のリンス液を排出させる際に基板外周に残存するリンス液を最小限になるように排出させることのできる微細構造乾燥処理方法及びその装置を提供することにある。 【解決手段】 本発明は、リンス液に浸漬又は濡れた状態の微細構造を有する基板を高圧処理容器内に設置して前記基板上の前記リンス液を常温及び常圧では気体で高圧下では液体となる流体によって前記高圧処理容器内より排出する微細構造乾燥処理方法において、前記基板上の前記リンス液に部材を接触させ前記リンス液を前記流体の上部又は下部に集め前記高圧処理容器内より排出させることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
リンス液に浸漬又は濡れた状態の微細構造を有する基板を高圧処理容器内に設置して前記基板上の前記リンス液を常温及び常圧では気体で高圧下で液体となる流体を用いて前記高圧処理容器内より排出する微細構造乾燥処理方法において、前記高圧処理容器内に前記流体を導入後、前記基板上の前記リンス液に部材を接触させ前記リンス液を前記流体の上部又は下部に集め前記高圧処理容器内より排出させることを特徴とする微細構造乾燥処理方法。
IPC (2件)：
FI (7件)：
H01L21/304 651Z
, H01L21/304 648G
, H01L21/304 648Z
, H01L21/304 651B
, H01L21/304 651J
, H01L21/304 651M
, H01L21/306 J
5F043BB27
, 5F043DD06
, 5F043DD30
出願人引用 (3件)
審査官引用 (6件)
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