特許
J-GLOBAL ID:200903053605136690

基板の両面形状測定装置及び基板の両面形状測定方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 松山 允之 ,  河西 祐一 ,  池上 徹真
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-229505
公開番号(公開出願番号):特開2007-046946
出願日: 2005年08月08日
公開日(公表日): 2007年02月22日
要約:
【課題】 表面および裏面の両面形状を同時に高精度に測定することができる基板の両面形状測定装置及び基板の両面形状測定方法を提供する。【解決手段】 測定装置本体1は、金属製のベッド2上の一端部にほぼ垂直状態に配置した縦型定盤3の基準平面4と、それにほぼ平行に被測定基板Pを保持する保持機構5と、変位計走査コラム9とを有する。上記変位計走査コラム9は、第1(第2)の変位計を搭載する第1のエアスライド、第3の変位計を搭載する第2のエアスライドを備え、一対のV溝10に沿って水平軸方向に移動する。また、第1(第2)のエアスライドが垂直軸方向に移動する。上記第1(第2)の変位計の走査により被測定基板Pの板面の一面の表面形状を測定し、同時に、上記第3の変位計の走査により上記板面の他面の表面形状を測定する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
定盤の基準平面がほぼ垂直状態となるように配置された定盤と、 被測定基板の板面が前記基準平面にほぼ平行になるように被測定基板を保持する保持機構と、 前記定盤の基準平面と、前記保持機構によって保持された前記被測定基板の板面の一面との間に配置され、垂直面内において走査可能であり前記走査と共に前記定盤の基準平面との距離を測定する第1の変位計および前記被測定基板の板面の一面との距離を測定する第2の変位計と、 前記板面の一面に対向する他面側に配置され、垂直面内において走査可能であり前記走査と共に前記板面の他面との距離を測定する第3の変位計と、 前記各変位計による測定結果に基づいて被測定基板の表面形状を演算する演算手段と、 を有することを特徴とする基板の両面形状測定装置。
IPC (2件):
G01B 11/24 ,  G01B 11/00
FI (2件):
G01B11/24 A ,  G01B11/00 B
Fターム (17件):
2F065AA06 ,  2F065AA47 ,  2F065AA51 ,  2F065BB01 ,  2F065CC18 ,  2F065GG06 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ09 ,  2F065MM07 ,  2F065PP03 ,  2F065PP12 ,  2F065PP22 ,  2F065QQ27 ,  2F065SS06 ,  2F065SS13
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特開平3-90805号公報
  • 基板表面の平坦度測定装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-238016   出願人:東芝セラミックス株式会社
審査官引用 (12件)
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