特許

J-GLOBAL ID：200903053925496334

かご型シルセスキオキサン構造を含む重合体とそれを含むネガ型レジスト材料

発明者： 木前 洋一 ,  柿本 雅明 ,  早川 晃鏡 ,  石田 良仁
出願人/特許権者： チッソ株式会社 ,  国立大学法人東京工業大学
代理人 (6件)： 川口 嘉之 ,  松倉 秀実 ,  和久田 純一 ,  遠山 勉 ,  佐貫 伸一 ,  丹羽 武司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-060175
公開番号（公開出願番号）：特開2009-215423
出願日： 2008年03月10日
公開日（公表日）： 2009年09月24日
要約：

【課題】新規なネガレジスト材料を提供する。【解決手段】式(I)で示される重合体。式(I)中、Rは、C1〜40のアルキル基、(置換)アリール基、又は(置換)アリールアルキル基であり、R2は単結合、C1〜40のアルキレン基、又は(置換)アリーレン基であり、R3はC1〜8のアルキル基、又は少なくとも一つの水素が-OR4もしくは水酸基で置換されたフェニル基であり、nは2以上の整数である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

式(I)で示される重合体。

IPC (3件)：

C08G 77/52 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

C08G77/52 ,  G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (32件)：

2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC77 ,  2H025BE00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J246AA11 ,  4J246AB01 ,  4J246AB07 ,  4J246BA14X ,  4J246BA140 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB021 ,  4J246BB25X ,  4J246BB250 ,  4J246BB253 ,  4J246BB26X ,  4J246BB260 ,  4J246BB262 ,  4J246CA24X ,  4J246CA240 ,  4J246CA53M ,  4J246CA53X ,  4J246CA530 ,  4J246CA56U ,  4J246CA56X ,  4J246CA560 ,  4J246FA221 ,  4J246HA15 ,  4J246HA63

引用特許：

出願人引用 (5件)

• ネガ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-032380   出願人：信越化学工業株式会社
• 新規なポリマーを含有する放射線感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-190922   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
• ネガ型レジスト材料及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-013585   出願人：信越化学工業株式会社
• ネガ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-080481   出願人：東京応化工業株式会社
• シリコン含有レジスト組成物およびその使用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-023822   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション

審査官引用 (4件)

• シルセスキオキサン誘導体を反応させて得られる重合体およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-125167   出願人：チッソ株式会社
• ネガ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-080481   出願人：東京応化工業株式会社
• 感光性樹脂組成物及びシルセスキオキサン重合体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-123170   出願人：旭化成株式会社
• 3層レジストプロセス用中間層材料組成物及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-081328   出願人：富士写真フイルム株式会社