特許
J-GLOBAL ID：200903054261097450
コンタクトプローブおよびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-136192
公開番号（公開出願番号）：特開2002-296296
出願日： 2001年05月07日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：
【要約】【課題】 コンタクトプローブの先端部をより鋭利にし、点接触を可能にする。【解決手段】 コンタクトプローブの製造方法は、基板21上に配置した、コンタクトプローブに対応する形状を有するパターン枠としてのレジスト膜22を用いて、レジスト膜22の隙間を埋めるようにメッキを行ない金属層26を形成するメッキ工程と、金属層26のうち、コンタクトプローブの先端部となる箇所を斜めに除去して尖らせる先端加工工程と、パターン枠から金属層26のみを取出す取出し工程とを含む。
請求項（抜粋）：
一定のパターンに従って一方向に成長させたメッキ金属層により形成された、先端部を有するコンタクトプローブであって、前記先端部は、前記メッキの成長方向と斜めに交わる、機械加工によって形成された斜面を有することによって尖っている、コンタクトプローブ。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G01R 1/067 G
, G01R 1/067 C
, H01L 21/66 B
2G011AA04
, 2G011AA09
, 2G011AB01
, 2G011AC14
, 2G011AE01
, 4M106BA01
, 4M106DD03
