特許
J-GLOBAL ID：200903054546171939
ホトレジスト用剥離液組成物およびこれを用いたホトレジスト剥離方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 洋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-351700
公開番号（公開出願番号）：特開2000-241991
出願日： 1999年12月10日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
要約：
【要約】【課題】 特に液晶パネル素子の製造に好適に使用される、ホトレジスト膜の剥離性に優れるとともに、金属配線、無機材料層の両者を形成した基板の防食性に優れるホトレジスト用剥離液組成物、およびこれを用いたホトレジスト剥離方法を提供する。【解決手段】 (a)アルカノールアミン類、(b)糖類、(c)水溶性有機溶媒、(d)ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、および(e)水を含有してなるホトレジスト用剥離液組成物、およびこれを用いたホトレジスト剥離方法。
請求項（抜粋）：
(a)アルカノールアミン類、(b)糖類、(c)水溶性有機溶媒、(d)ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、および(e)水を含有してなる、ホトレジスト用剥離液組成物。
IPC (8件)：
G03F 7/42
, C11D 7/26
, C11D 7/32
, C11D 7/50
, C11D 7/60
, C11D 17/00
, C11D 17/08
, H01L 21/027
G03F 7/42
, C11D 7/26
, C11D 7/32
, C11D 7/50
, C11D 7/60
, C11D 17/00
, C11D 17/08
, H01L 21/30 572 B
