低加速電子線用ポジ型レジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 青山正和 , 鈴木三義 , 柳井則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-334029
公開番号（公開出願番号）：特開2005-099504
出願日： 2003年09月25日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

【課題】高解像性で、ドライエッチング耐性に優れ、膜減りの低減された、低加速電子線を用いて露光する工程を経てレジストパターンを形成する方法に好適に用いられるポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含む低加速電子線用ポジ型レジスト組成物であって、該低加速電子線用ポジ型レジスト組成物から形成されるレジスト膜の未露光部における前記アルカリ現像後の残膜率が80%以上であることを特徴とする低加速電子線用ポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含む低加速電子線用ポジ型レジスト組成物であって、該低加速電子線用ポジ型レジスト組成物から形成されるレジスト膜の未露光部における前記アルカリ現像後の残膜率が80%以上であることを特徴とする低加速電子線用ポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F7/039 , H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/039 601 , H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC06 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB17 , 2H025CB45 , 2H025CC20 , 2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (2件)

ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-094443 出願人：東京応化工業株式会社
電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-142185 出願人：富士写真フイルム株式会社

審査官引用 (8件)

感光性材料、パターン形成方法、および電子部品の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-236047 出願人：株式会社東芝
化学増幅型ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-088788 出願人：住友化学工業株式会社
化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-234290 出願人：東京応化工業株式会社

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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