特許
J-GLOBAL ID：200903054901747260
プラズマ装置、プラズマ制御方法及びプラズマ処理基体
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
渡部 章彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-191829
公開番号（公開出願番号）：特開2004-039719
出願日： 2002年07月01日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】本発明は、プラズマ装置に関し、大面積のプラズマを安定に生成することができる誘導結合方式のプラズマ装置を提供することを目的とする。【解決手段】プラズマ装置は、高周波放電による誘導結合方式のプラズマ装置において、高周波電力を供給される複数本のアンテナ5を真空チャンバー1内に設け、複数本のアンテナ5を各々が1又は複数のアンテナ5からなる複数のグループに分け、グループの各々に対応する高周波電源7を設け、グループの各々においてそのグループに属する1又は複数のアンテナ5の各々にそのグループに対応して設けられた高周波電源7から高周波電力を並列に供給する。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
高周波放電による誘導結合方式のプラズマ装置において、
高周波電力を供給されるアンテナであって、表面が絶縁体で被覆され真空容器を周回しないで終端し当該高周波の1/ 4波長の長さよりも短い線状又は板状の導体からなるアンテナを、複数本、真空容器内に備える
ことを特徴とするプラズマ装置。
IPC (4件)：
H01L21/205
, C23C16/507
, H01L21/3065
, H05H1/46
H01L21/205
, C23C16/507
, H05H1/46 L
, H01L21/302 101C
4K030FA04
, 4K030KA15
, 4K030KA30
, 4K030KA47
, 5F004BA20
, 5F004BB32
, 5F004BD01
, 5F004BD04
, 5F004CA03
, 5F045AA08
, 5F045DP04
, 5F045EH02
, 5F045EH04
, 5F045EH11
, 5F045EH19
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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