特許
J-GLOBAL ID：200903055160591239
光導波路の形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-107965
公開番号（公開出願番号）：特開平10-300963
出願日： 1997年04月24日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：
【要約】【課題】 製造工程や構造が複雑化し、装置としての再現性が悪く、さらに装置が高価になるという問題があった。【解決手段】 シリコン基板内にコア部とクラッド部から成る光導波路を形成する光導波路の形成方法において、前記シリコン基板の光導波路形成部分を多孔質化した後、プラズマ化若しくは活性化した酸素もしくは分子中に酸素原子を有する気体に曝して酸化する。
請求項（抜粋）：
シリコン基板内にコア部とクラッド部から成る光導波路を形成する光導波路の形成方法において、前記シリコン基板の光導波路形成部分を多孔質化した後、プラズマ化若しくは活性化した酸素もしくは分子中に酸素原子を有する気体に曝して酸化することを特徴とする光導波路の形成方法。
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (3件)
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