特許
J-GLOBAL ID:200903055298631452
クリーンルーム、荷電粒子線装置及びクリーンルームへの荷電粒子線装置設置方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
平木 祐輔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-100011
公開番号(公開出願番号):特開2000-294492
出願日: 1999年04月07日
公開日(公表日): 2000年10月20日
要約:
【要約】【課題】 荷電粒子線装置の設置時やメンテナンス時の清浄空間の汚染を抑制する。【解決手段】 荷電粒子線装置55をクリーンルームの清浄空間外に配設し、清浄空間を密閉する隔壁51に設けた開口部61に試料を出し入れする搬送路の入り口を接続し、隔壁51の開口部61を介して試料の受け渡しを行う。
請求項(抜粋):
清浄空間を外部空間から隔てる隔壁を備え、該隔壁に、本体が外部空間側に配設される荷電粒子線装置に対する試料出入り口となる開口部が設けられていることを特徴とするクリーンルーム。
IPC (2件):
FI (3件):
H01L 21/30 541 L
, H01L 21/02 D
, H01L 21/30 503 G
Fターム (9件):
5F046AA23
, 5F046AA28
, 5F046BA07
, 5F046CD01
, 5F046CD04
, 5F046CD06
, 5F046DD06
, 5F056EA13
, 5F056EA15
引用特許:
出願人引用 (9件)
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半導体製造設備
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-101358
出願人:住友電気工業株式会社
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電子ビ-ム露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-158603
出願人:株式会社東芝
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真空処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-326221
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
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特開平1-276713
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処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-135209
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン東北株式会社
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半導体製造装置および半導体装置の製造方法ならびに半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-034406
出願人:株式会社日立製作所
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特開平1-170014
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仕切り
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-337112
出願人:富士通株式会社
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荷電粒子露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-241453
出願人:株式会社日立製作所
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審査官引用 (6件)
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半導体製造設備
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-101358
出願人:住友電気工業株式会社
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真空処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-326221
出願人:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
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電子ビ-ム露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-158603
出願人:株式会社東芝
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