特許
J-GLOBAL ID：200903055540352962
薄膜の作成方法と作成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (3件)：
岩橋 文雄
, 坂口 智康
, 内藤 浩樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-330494
公開番号（公開出願番号）：特開2004-160388
出願日： 2002年11月14日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：
【課題】本発明は、真空蒸着法やスピンコート法で成膜できなかった発光材料、光電変換材料等の材料を成膜することができ、電子デバイスに用いる機能性薄膜材料の選択性を広げることができるとともに、高性能の電子デバイスの作成を可能とする薄膜の作成方法と作成装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の薄膜の作成方法は、原料液1をエアロゾル化し、エアロゾル15を加熱して、基板19上に堆積させて薄膜を形成する薄膜の作成方法であって、基板19方向にキャリアガス13aを流しエアロゾル15を搬送する、エアロゾル15の粒子を分級する、エアロゾル15と基板19との間に電位差を生じさせる、原料液1を静電噴霧してエアロゾル化する、の内少なくとも1つを含む構成とした。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
原料液をエアロゾル化し、前記エアロゾルを加熱して、基板上に堆積させて薄膜を形成する薄膜の作成方法であって、
前記基板方向にキャリアガスを流し、前記エアロゾルを搬送することを特徴とする薄膜の作成方法。
IPC (8件)：
B05D3/02
, B05B1/24
, B05B5/025
, B05B5/08
, B05B7/06
, B05D1/04
, H05B33/10
, H05B33/14
B05D3/02 A
, B05B1/24
, B05B5/025 Z
, B05B5/08 J
, B05B7/06
, B05D1/04 Z
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, H05B33/14 Z
3K007AB18
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4D075AA09
, 4D075AA22
, 4D075AA25
, 4D075AA34
, 4D075AA71
, 4D075AA76
, 4D075AA86
, 4D075BB22X
, 4D075DA06
, 4D075DB14
, 4D075DC21
, 4D075EA02
, 4D075EA05
, 4F033AA01
, 4F033BA01
, 4F033BA03
, 4F033DA01
, 4F033EA01
, 4F033HA02
, 4F034BA31
, 4F034BB04
, 4F034BB12
, 4F034CA11
, 4F034DA05
, 4F034DA17
