特許
J-GLOBAL ID：200903057559338254
イオンビーム装置およびイオンビーム加工方法、ホルダ部材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂上 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-204028
公開番号（公開出願番号）：特開2004-047315
出願日： 2002年07月12日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：
【課題】試料の加工面から破砕層を良好に除去する。【解決手段】試料3を保持するホルダ部材21と、このホルダ部材21に保持された試料3の断面4に不活性イオンビームを照射して断面4上の破砕層を除去するための除去用ビーム源13とを備える。そして、除去用ビーム源13は、断面4の垂線Lに対して試料3の保持端側に位置されて、断面4に対する不活性イオンビームの照射方向が、垂線Lに対して傾斜角θをもって傾斜されている。【選択図】 図10
請求項（抜粋）：
試料を保持するホルダ部材と、
前記ホルダ部材に保持された試料の、集束イオンビームが照射されて形成された加工面に、気体イオンビームを照射して前記加工面上の破砕層を除去するための除去用ビーム源とを備え、
前記気体イオンビームは、前記加工面に垂直な方向に対して前記試料の保持端側から、照射方向を前記垂直な方向に対して傾斜させて照射されるイオンビーム装置。
IPC (6件)：
H01J37/30
, G01N1/28
, G01N1/32
, G21K5/08
, H01J37/20
, H01L21/302
H01J37/30 Z
, G01N1/32 B
, G21K5/08 A
, H01J37/20 Z
, H01L21/302 201B
, G01N1/28 F
, G01N1/28 G
2G052AA13
, 2G052AD32
, 2G052AD52
, 2G052EC14
, 2G052EC18
, 2G052EC22
, 2G052GA34
, 2G052JA11
, 5C001AA01
, 5C001AA05
, 5C001CC07
, 5C034AA01
, 5C034AA02
, 5C034AA03
, 5C034AB04
, 5F004AA14
, 5F004BA11
, 5F004BA20
, 5F004DA22
, 5F004DA23
, 5F004DA26
, 5F004DB00
, 5F004EA39
, 5F004FA08
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (14件)
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