特許
J-GLOBAL ID：200903058001460556

パターン予測方法およびプログラム

発明者：
福原 和也

福原 和也 について

, 
東木 達彦

東木 達彦 について

, 
井上 壮一

井上 壮一 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (8件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  峰 隆司 ,  福原 淑弘 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-038646
公開番号（公開出願番号）：特開2007-150354
出願日： 2007年02月19日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
【課題】 実用的なパターン予測方法を実現すること。【解決手段】 パターン予測方法は、フォトマスクに光を照射し、前記フォトマスクを通過した光を投影光学系を介して感光基板上に集光して形成される前記感光基板上のパターンを予測するパターン予測方法であって、前記投影光学系を通過する光の前記投影光学系内の経路の違いに依存して変化する、前記投影光学系の透過率変動を、前記投影光学系の瞳座標で定義される直交多項式を用いて近似する工程と、前記投影光学系の透過率変動を近似する前記直交多項式の展開係数に基づいて、前記パターンを予測する工程とを有することを特徴とする。【選択図】 図14
請求項（抜粋）：
フォトマスクに光を照射し、前記フォトマスクを通過した光を投影光学系を介して感光基板上に集光して形成される前記感光基板上のパターンを予測するパターン予測方法であって、 前記投影光学系を通過する光の前記投影光学系内の経路の違いに依存して変化する、前記投影光学系の透過率変動を、前記投影光学系の瞳座標で定義される直交多項式を用いて近似する工程と、 前記投影光学系の透過率変動を近似する前記直交多項式の展開係数に基づいて、前記パターンを予測する工程と を有することを特徴とするパターン予測方法。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (1件)：
H01L21/30 502Z
Fターム (3件)：
5F046AA17 ,  5F046AA25 ,  5F046AA28
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (8件)
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