特許
J-GLOBAL ID：200903058036930628
処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-068170
公開番号（公開出願番号）：特開2004-277772
出願日： 2003年03月13日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：
【課題】シャワーヘッド及び処理容器内の残留ガスの排気を効率的に短時間で行なうことのできる処理装置を提供することを課題とする。【解決手段】処理容器2にウェハWが収容され、所定の圧力下でシャワーヘッド12,22から処理ガスを供給しながら成膜処理が行われる。シャワーヘッド22は、処理ガスを供給するための複数の孔22aに対して個別に処理ガスを供給する細管24を有する。また、処理容器2内の空間において、シャワーヘッド32の孔32aが設けられた面に対して実質的に平行な方向にパージガスを流すための処理容器パージ機構を設けられる。更に、シャワーヘッド12内の空間において、孔12aが設けられた面に対して外周部にパージガスを流すためのシャワーヘッドパージ機構を設けてもよい。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
被処理基板が収容され、処理が施される処理容器と、
該処理容器に設けられ、該被処理基板の被処理面に対向した面に設けられた複数の孔から処理ガスを前記処理容器内に供給するシャワーヘッドと、
該シャワーヘッドに処理ガスを供給するガス供給配管とを有する処理装置であって、
前記シャワーヘッドは、前記複数の孔に対して個別に処理ガスを供給する細管を有しており、該細管の他端は一箇所でガス供給通路に接続されることを特徴とする処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (18件)：
4K030AA03
, 4K030AA06
, 4K030AA13
, 4K030AA18
, 4K030BA17
, 4K030BA18
, 4K030BA38
, 4K030CA04
, 4K030EA04
, 4K030FA10
, 4K030KA45
, 4K030LA15
, 5F045AA04
, 5F045BB04
, 5F045DP03
, 5F045EF01
, 5F045EF05
, 5F045EG01
