特許
J-GLOBAL ID：200903058375885380
ブラスト加工によるPDP用基板等のリブ形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 英一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-122951
公開番号（公開出願番号）：特開平11-300616
出願日： 1998年04月16日
公開日（公表日）： 1999年11月02日
要約：
【要約】【目的】低圧空気を用いたブラスト加工の利点を生かしながら、PDP用のガラス基板等の硬質基板に対するリブ形成手段としてより効率的に適用し、作業性がよく安定した実用的なリブ形成方法を提供する。【構成】研磨材として少なくとも粒子の平均径の平均が15〜25μmのアルミナ粒子を用い、低圧空気発生手段からの吐出圧力が0.3〜0.7kgf/cm2の低圧空気流路中に前記アルミナ粒子を混入し、その空気流に乗せて同アルミナ粒子を12mm以上の口径又は同等の断面積を有するノズルより噴射しながら該ノズルの基板に対する相対移動速度を800mm/min以上に設定してブラスト加工を行うとともに、その際に前記ノズルの噴射口を通過するアルミナ粒子の供給量を3〜10g/cm2・sに設定し、かつ同アルミナ粒子の基板との衝突速度を60〜140m/sに設定する。
請求項（抜粋）：
研磨材として少なくとも粒子の平均径の平均が15〜25μmのアルミナ粒子を用い、低圧空気発生手段からの吐出圧力が0.3〜0.7kgf/cm2の低圧空気流路中に前記アルミナ粒子を混入し、その空気流に乗せて同アルミナ粒子を12mm以上の口径又は同等の断面積を有するノズルより噴射しながら該ノズルの基板に対する相対移動速度を800mm/min以上に設定してブラスト加工を行うとともに、その際に前記ノズルの噴射口を通過するアルミナ粒子の供給量を3〜10g/cm2・sとし、かつ同アルミナ粒子の基板との衝突速度を60〜140m/sとすることを特徴とするブラスト加工によるPDP用基板等のリブ形成方法。
引用特許：
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