特許
J-GLOBAL ID:200903071108030909
ポジ型感光性組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-051595
公開番号(公開出願番号):特開平9-236921
出願日: 1996年03月08日
公開日(公表日): 1997年09月09日
要約:
【要約】【課題】 高解像力でかつ耐熱性が良好なポジ型感光性組成物を提供する。【解決手段】 フェノール性水酸基含有アルカリ可溶性樹脂または該水酸基が酸不安定基で保護された樹脂及び光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物に於て、フェノール性、水酸基含有アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量が6000〜60000であり分子量が4000以下の成分が10重量%以下、分子量4000〜70000の成分が80重量%以上であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
請求項(抜粋):
フェノール性水酸基含有アルカリ可溶性樹脂または該水酸基が酸不安定基で保護された樹脂及び光酸発生剤を含有するポジ型感光性組成物に於て、フェノール性水酸基含有アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量が6000〜60000であり、分子量4000未満の成分が10重量%以下、分子量4000〜70000の成分が80重量%以上であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (3件):
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/027
FI (3件):
G03F 7/039 501
, G03F 7/004 503
, H01L 21/30 502 R
引用特許:
審査官引用 (10件)
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レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-125006
出願人:株式会社東芝
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ポジ型レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-037541
出願人:日本電信電話株式会社, 信越化学工業株式会社
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感放射線性樹脂組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-116722
出願人:日本合成ゴム株式会社
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化学増幅型レジスト溶液
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-048634
出願人:日本合成ゴム株式会社
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フォトレジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-065740
出願人:オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
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化学増幅系レジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-203610
出願人:富士通株式会社
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ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-005795
出願人:住友化学工業株式会社
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レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-303235
出願人:日本ゼオン株式会社, 富士通株式会社
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パターン形成材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-125678
出願人:信越化学工業株式会社
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レジスト材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-115308
出願人:信越化学工業株式会社
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