特許
J-GLOBAL ID:200903059149326618

テラヘルツ光発生装置およびテラヘルツ光測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 永井 冬紀
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-363785
公開番号(公開出願番号):特開2005-129732
出願日: 2003年10月23日
公開日(公表日): 2005年05月19日
要約:
【課題】 広帯域のテラヘルツパルス光を発生するテラヘルツ光発生装置および様々な測定目的に適するテラヘルツ光測定装置を提供すること。【解決手段】 テラヘルツ光発生装置10は、テラヘルツパルス光T1を放射する光伝導アンテナ4と、テラヘルツパルス光T2を放射する半導体部材5と、励起レーザ光L4,L5をそれぞれ光伝導アンテナ4、半導体部材5に照射するレーザ光源1と、テラヘルツパルス光T1,T2を一つに合成するワイヤーグリッド6とを備える。テラヘルツ光測定装置100は、テラヘルツ光発生装置10と、テラヘルツパルス光T3を試料Sに照射し、試料Sからのテラヘルツパルス光T4を検出手段へ導くテラヘルツ光学系と、テラヘルツパルス光T4検出するテラヘルツ光検出器27と、テラヘルツ光検出器27により検出された値に基づいて試料Sの物性値を演算する演算手段とを備える。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
周波数帯域の異なるテラヘルツ光を放射する複数のテラヘルツ光源と、 前記複数のテラヘルツ光源の各々に励起レーザ光を照射するレーザ光源と、 前記複数のテラヘルツ光源から放射されるテラヘルツ光を一つに合成するビーム結合素子とを備えることを特徴とするテラヘルツ光発生装置。
IPC (3件):
H01S1/02 ,  G01N21/01 ,  G01N21/35
FI (3件):
H01S1/02 ,  G01N21/01 D ,  G01N21/35 Z
Fターム (7件):
2G059AA01 ,  2G059BB08 ,  2G059EE01 ,  2G059GG01 ,  2G059GG08 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ19
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (11件)
全件表示

前のページに戻る