特許
J-GLOBAL ID：200903081839886816

感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
児玉 邦彦

児玉 邦彦 について

, 
和田 健二

和田 健二 について

, 
岩戸 薫

岩戸 薫 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-349976
公開番号（公開出願番号）：特開2005-266766
出願日： 2004年12月02日
公開日（公表日）： 2005年09月29日
要約：
【課題】 パターン倒れが少なく、ラインエッジラフネスを小さくでき、パターンプロファイルが優れた感光性組成物、化合物及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により、下記一般式(I)または(I ́)で表される酸を発生する化合物を含有する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線または放射線の照射により、下記一般式(I)または(I’)で表される酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (10件)：
G03F7/004 ,  C07C381/12 ,  C07D211/60 ,  C07D225/02 ,  C07D295/08 ,  C08K5/42 ,  C08L101/12 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (10件)：
G03F7/004 503A ,  C07C381/12 ,  C07D211/60 ,  C07D225/02 ,  C07D295/08 Z ,  C08K5/42 ,  C08L101/12 ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (49件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025AD05 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CC17 ,  2H025FA17 ,  4C034EA10 ,  4C054AA02 ,  4C054CC08 ,  4C054DD01 ,  4C054EE01 ,  4C054FF01 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4J002BC111 ,  4J002BC121 ,  4J002BD121 ,  4J002BD171 ,  4J002BE041 ,  4J002BG051 ,  4J002BG071 ,  4J002BG091 ,  4J002BH021 ,  4J002BK001 ,  4J002CP031 ,  4J002EC027 ,  4J002EJ027 ,  4J002EJ047 ,  4J002EL027 ,  4J002EU107 ,  4J002EU187 ,  4J002EV236 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002FD147 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03
引用特許：
出願人引用 (6件)
  • レジスト材料及びパターン形成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-239633   出願人：信越化学工業株式会社
  • 欧州特許出願公開第1270553号明細書
  • 国際公開第02/042845号パンフレット
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審査官引用 (8件)
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