特許
J-GLOBAL ID：200903060864860565
マスクブランク検査装置および方法、反射型露光マスクの製造方法ならびに半導体集積回路の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
山田 卓二
, 田中 光雄
, 竹内 三喜夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-101079
公開番号（公開出願番号）：特開2009-251412
出願日： 2008年04月09日
公開日（公表日）： 2009年10月29日
要約：
【課題】暗視野検出だけでは困難であった欠陥高さの高い位相欠陥や振幅欠陥に対する検出感度や検出信頼性を向上できるマスクブランク検査装置および方法を提供する。【解決手段】マスクブランク検査装置は、反射型マスクブランクMBを載置するステージ2と、検査光BMを発生する光源1と、照明光学系としてのミラー10と、結像光学系Lと、2次元アレイセンサSと、欠陥検出信号蓄積部6と、欠陥検出処理部7と、欠陥情報格納部8と、装置全体を制御する主制御部9などで構成される。ステージ2は、マスクブランクMBに対する検査光BMの入射角度および正反射角度が可変となるように、傾斜機構が設けられる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
検査対象となる反射型マスクブランクを載置するためのステージと、
検査光を発生するための光源と、
光源からの検査光を用いて、前記マスクブランクの被検査領域を照明するための照明光学系と、
被検査領域からの反射光および散乱光の少なくとも一方を捕集して、拡大結像するための結像光学系と、
該結像光学系によって結像された像を検出するための画像センサと、
前記画像センサからの信号に基づいて、マスクブランクの欠陥の有無を判定するための画像処理部とを備え、
前記ステージおよび前記照明光学系の少なくとも一方は、マスクブランクに対する検査光の入射角度および正反射角度が可変となるように、傾斜機構を有することを特徴とするマスクブランク検査装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
2H095BA02
, 2H095BA10
, 2H095BD02
, 2H095BD05
, 2H095BD13
, 2H095BD17
出願人引用 (6件)
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多層膜マスク欠陥検査方法及び装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-309981
出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
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X線マスク検査装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-140981
出願人：株式会社ニコン
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米国特許出願公開第2004/0057107号明細書
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審査官引用 (6件)
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