特許
J-GLOBAL ID：200903080715230711

散乱光の角度分布を使ったマスクブランクの欠陥の検出および特性評価

発明者：
手塚 好弘

手塚 好弘 について


出願人/特許権者：
インテル コーポレイション

インテル コーポレイション について


代理人 (3件)： 伊東 忠彦 ,  大貫 進介 ,  伊東 忠重
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-370205
公開番号（公開出願番号）：特開2007-171640
出願日： 2005年12月22日
公開日（公表日）： 2007年07月05日
要約：
【課題】極端紫外線リソグラフィ用マスクブランクの欠陥を検査する装置を提供すること。【解決手段】 マスクブランクの欠陥を検査する装置において、第一の虹彩絞りが光源に位置されて光源から放出される光の照射角を制限し、散乱制限ユニットがマスクブランクから反射したのちの散乱光の散乱角を制限するために暗視野光学ユニットの出射口に位置される。欠陥検出器が光学的に暗視野光学ユニットに結合されており、散乱光の角度分布を生成する。その角度分布を用いてマスクブランク上にみつかった欠陥の重大性の特性評価が行われる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
光源に位置しており、該光源から放出される光の照射角を制限するための第一の虹彩絞りと、 暗視野光学ユニットの出射口に位置しており、マスクブランクから反射したのちの散乱光の散乱角を制限するための散乱制限ユニットと、 前記暗視野光学ユニットに光学的に結合された、前記散乱光の角度分布を生成するための欠陥解析器とを有しており、該角度分布が前記マスクブランク上にみつかった欠陥の重大性を特性評価するのに使われることを特徴とする装置。
IPC (3件)：
G03F 1/14 ,  G03F 1/08 ,  G01N 21/956
FI (3件)：
G03F1/14 A ,  G03F1/08 S ,  G01N21/956 A
Fターム (23件)：
2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051BA05 ,  2G051BB01 ,  2G051BB05 ,  2G051BB11 ,  2G051CA04 ,  2G051CB05 ,  2G051CC07 ,  2G051DA05 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA21 ,  2H095BA10 ,  2H095BC26 ,  2H095BD02 ,  2H095BD05 ,  2H095BD12 ,  2H095BD16 ,  2H095BD19 ,  2H095BD20 ,  2H095BD25 ,  2H095BD28
引用特許：
審査官引用 (13件)
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