特許
J-GLOBAL ID:200903061054149969
顕微鏡
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
杉村 興作
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-026796
公開番号(公開出願番号):特開2004-239660
出願日: 2003年02月04日
公開日(公表日): 2004年08月26日
要約:
【課題】特にイレース光に対して波面の乱れを除去して完全な中空形状をもつビームに整形でき、極限に近い超解像性を誘起して空間分解能を向上できる顕微鏡を提供する。【解決手段】少なくとも基底状態を含む3つの電子状態を有する分子を含む試料56に対して、上記分子を基底状態から第1電子励起状態に励起するための第1の光、または上記分子を第1電子励起状態から、よりエネルギー準位の高い第2電子励起状態に励起するための第2の光を所定のビーム形状に空間位相変調して、これら第1の光および第2の光を一部分重ね合わせて集光し、試料56からの発光を検出するようにした顕微鏡において、上記第1の光の光路中および/または上記第2の光の光路中に波面補償手段61を設け、該波面補償手段61により上記第1の光および/または上記第2の光に生じる波面収差を除去する。【選択図】 図5
請求項(抜粋):
少なくとも基底状態を含む3つの電子状態を有する分子を含む試料に対して、上記分子を基底状態から第1電子励起状態に励起するための第1の光、または上記分子を上記第1電子励起状態から、よりエネルギー準位の高い第2電子励起状態に励起するための第2の光を所定のビーム形状に空間位相変調して、これら第1の光および第2の光を一部分重ね合わせて集光し、上記試料からの発光を検出するようにした顕微鏡において、
上記第1の光の光路中および/または上記第2の光の光路中に波面補償手段を設け、
該波面補償手段により上記第1の光および/または上記第2の光に生じる波面収差を除去するよう構成したことを特徴とする顕微鏡。
IPC (3件):
G01N21/64
, G02B21/00
, G02B21/06
FI (4件):
G01N21/64 E
, G01N21/64 F
, G02B21/00
, G02B21/06
Fターム (28件):
2G043DA02
, 2G043DA06
, 2G043EA01
, 2G043EA13
, 2G043FA02
, 2G043FA06
, 2G043HA01
, 2G043HA02
, 2G043HA06
, 2G043HA07
, 2G043HA09
, 2G043HA15
, 2G043KA01
, 2G043KA02
, 2G043KA05
, 2G043KA09
, 2G043LA02
, 2G043LA03
, 2G043MA01
, 2G043MA04
, 2G043NA05
, 2H052AA08
, 2H052AA09
, 2H052AC00
, 2H052AC04
, 2H052AC14
, 2H052AC34
, 2H052AF02
引用特許:
審査官引用 (11件)
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二重共鳴吸収顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-082898
出願人:オリンパス光学工業株式会社, 株式会社日本ローパー, 科学技術振興事業団
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二重共鳴吸収顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-082893
出願人:オリンパス光学工業株式会社, 株式会社日本ローパー, 科学技術振興事業団
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レーザ集光装置及びレーザ加工装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-035170
出願人:浜松ホトニクス株式会社
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位相面制御を有する高平均パワ-・ファイバ・レ-ザ・システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-226256
出願人:ティーアールダブリュー・インコーポレーテッド
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波面感知装置
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-571223
出願人:アイシスイノヴェイションリミテッド
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顕微鏡システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-097924
出願人:科学技術振興事業団, オリンパス光学工業株式会社
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顕微鏡の観察方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-255444
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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集光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-292383
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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顕微鏡におけるアダプティブ光学装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-214675
出願人:カールツァイスイエナゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
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光学装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-065630
出願人:セイコーエプソン株式会社
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波面検出装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-232977
出願人:株式会社ニコン
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