特許
J-GLOBAL ID：200903061131950238

重合体、製造方法、レジスト組成物およびパターン形成法

発明者：
安斎 竜一

安斎 竜一 について

, 
藤原 匡之

藤原 匡之 について

, 
上田 昭史

上田 昭史 について


出願人/特許権者：
三菱レイヨン株式会社

三菱レイヨン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-296457
公開番号（公開出願番号）：特開2005-060638
出願日： 2003年08月20日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：
【課題】 レジスト材料等の構成成分樹脂として有用な有機溶剤への溶解性に優れた重合体、このような重合体の製造方法、遠紫外光エキシマレーザーリソグラフィー、中でも波長250nm以下の光、特にArFエキシマレーザー光、および電子線リソグラフィー等に対して高感度でドライエッチング耐性に優れる好適なレジスト組成物、ならびに、このレジスト組成物を用いた高精度で微細なパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 下記式(1)【化1】【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記式(1)
IPC (4件)：
C08F20/18 ,  C08F2/06 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (4件)：
C08F20/18 ,  C08F2/06 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (55件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB55 ,  2H025FA10 ,  4J011AA05 ,  4J011BB01 ,  4J011BB02 ,  4J011BB06 ,  4J011BB10 ,  4J011BB12 ,  4J011HA03 ,  4J011HB02 ,  4J011HB22 ,  4J100AK32Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AM15Q ,  4J100AM17Q ,  4J100AU29Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA04R ,  4J100BA11P ,  4J100BA11R ,  4J100BA40Q ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53R ,  4J100BC58P ,  4J100BC58R ,  4J100BD10P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100FA03 ,  4J100FA04 ,  4J100FA19 ,  4J100FA28 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (5件)
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