特許
J-GLOBAL ID：200903061199423392

無機レジスト・パターン、無機レジスト・パターンの形成方法、光ディスク原盤、光ディスク原盤の製造方法、光ディスク・スタンパの製造方法及び光ディスク基板の製造方法

発明者：
斉藤 則之

斉藤 則之 について

, 
安達 則夫

安達 則夫 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (3件)： 大森 純一 ,  折居 章 ,  飯阪 泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-223672
公開番号（公開出願番号）：特開2008-046513
出願日： 2006年08月18日
公開日（公表日）： 2008年02月28日
要約：
【課題】無機レジスト層とその下地基材又は下地層との間における結晶性の界面層の形成を抑制する。【解決手段】基材1上に金属酸化物からなる無機レジスト層3を形成する工程と、無機レジスト層3にレーザ光3bを照射して所定形状の潜像3aを形成する工程と、無機レジスト層3を現像して基材1上に潜像3aの形成部が凹部となる無機レジスト層3の凹凸パターンを形成する工程とを有し、金属酸化物として、単一の遷移金属からなる金属酸化物を用いることにより、無機レジスト層3とその下地基材1又は下地層2との間における結晶性の界面層の形成を抑制する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基材の上に無機レジスト層をパターン形成してなる無機レジスト・パターンであって、 前記無機レジスト層は、 露光部が溶解するポジ型の感熱性無機レジスト層であるとともに、 単一の遷移金属を含む金属酸化物からなる ことを特徴とする無機レジスト・パターン。
IPC (2件)：
G03F 7/004 ,  G11B 7/26
FI (3件)：
G03F7/004 ,  G11B7/26 501 ,  G11B7/26 511
Fターム (14件)：
2H025AA03 ,  2H025AA18 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BB00 ,  2H025FA17 ,  2H025FA35 ,  2H025FA43 ,  5D121BA03 ,  5D121BB01 ,  5D121BB21 ,  5D121CB07
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (2件)

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