特許
J-GLOBAL ID：200903062947697332

液晶表示装置の製造方法及びその製造方法による液晶表示装置

発明者：
キム、ジォン ヒュン

キム、ジォン ヒュン について

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金 雄権

金 雄権 について

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朴 星一

朴 星一 について

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林 京男

林 京男 について

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李 厚永

李 厚永 について

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柳 基鉉

柳 基鉉 について


出願人/特許権者：
エルジー電子株式会社

エルジー電子株式会社 について


代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-091520
公開番号（公開出願番号）：特開平10-041519
出願日： 1997年03月26日
公開日（公表日）： 1998年02月13日
要約：
【要約】【課題】 多層構造の薄膜トランジスタを有する基板の表面が平坦であり、寄生容量が少なく、密着性不良の問題を解決し、又、開口率が向上した液晶表示装置を提供する。【解決手段】 液晶表示装置において、基板111と、基板上のゲート113、ソース123、ドレイン127、半導体層119及びゲート絶縁層157を有するトランジスタと、トランジスタ上に形成される保護膜159とを備え、保護膜159及び/又はゲート絶縁層157は、フッ素が添加されたポリイミド、テフロン(登録商標)、Cytop、フルオロポリアリールエーテル, フッ素が添加されたp-キシレン, PFCB及びBCB中の少なくとも一つを含む。
請求項（抜粋）：
液晶表示装置において、基板と、前記基板上のゲート、ソース、ドレイン、半導体層及びゲート絶縁層を有するトランジスタと、前記トランジスタ上に形成される保護膜と、該保護膜は、フッ素が添加されたポリイミド、テフロン、Cytop、フルオロポリアリールエーテル, フッ素が添加されたp-キシレン, PFCB及びBCB中の少なくとも一つを含むことを特徴とする、液晶表示装置用のトランジスタ基板。
IPC (3件)：
H01L 29/786 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 21/336
FI (7件)：
H01L 29/78 619 A ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 29/78 612 C ,  H01L 29/78 616 A ,  H01L 29/78 617 T ,  H01L 29/78 617 U ,  H01L 29/78 619 B
引用特許：
審査官引用 (16件)
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