特許
J-GLOBAL ID：200903063178161390
凹凸処理膜の作製方法および凹凸処理膜
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-098857
公開番号（公開出願番号）：特開2001-288589
出願日： 2000年03月31日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
要約：
【要約】【課題】 無機材料薄膜の表面に微小な凹凸を、安定且つ制御よく形成することができる凹凸処理膜の作製方法、および作製された凹凸処理膜を提供する。【解決手段】 化学エッチング液5に溶解し易い粒界領域4と溶解し難い粒内領域3とからなる微結晶粒2によって形成された無機材料薄膜1に、化学エッチング液5を接触させて粒界領域4を溶解し、無機材料薄膜1の表面に微小な凹凸を形成することによって、上記課題を解決する。このとき、無機材料薄膜1が、プラズマCVD法で成膜された酸化珪素膜または珪素膜であり、化学エッチング液5が、フッ化水素酸、フッ化アンモニウム水溶液またはこれらの混合溶液であることが好ましい。
請求項（抜粋）：
化学エッチング液に溶解し易い粒界領域と溶解し難い粒内領域とからなる微結晶粒によって形成された無機材料薄膜に、当該化学エッチング液を接触させて前記粒界領域を溶解し、当該無機材料薄膜の表面に微小な凹凸を形成することを特徴とする凹凸処理膜の作製方法。
Fターム (12件)：
4K057WA05
, 4K057WA07
, 4K057WB01
, 4K057WB03
, 4K057WB05
, 4K057WB06
, 4K057WB08
, 4K057WB20
, 4K057WE02
, 4K057WE07
, 4K057WE08
, 4K057WN10
