特許
J-GLOBAL ID：200903063190862442

液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
漢那 慎一

漢那 慎一 について

, 
稲部 陽樹

稲部 陽樹 について

, 
神田 博美

神田 博美 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-250400
公開番号（公開出願番号）：特開2006-065211
出願日： 2004年08月30日
公開日（公表日）： 2006年03月09日
要約：
【課題】 液浸露光時に於ける、プロファイル形状、ラインエッジラフネス(LER)が改善された液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 側鎖に環構造を有する特定の繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、溶剤を含有する液浸プロセス用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)一般式(A-1-1)〜(A-1-3)のいずれかで表される繰り返し単位を含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、 (C)溶剤 を含有することを特徴とする液浸プロセス用ポジ型レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  C08F 212/14 ,  C08F 220/12 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/12 ,  H01L21/30 502R
Fターム (45件)：
2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AE09P ,  4J100AE09Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA04R ,  4J100BA10P ,  4J100BA10Q ,  4J100BA15Q ,  4J100BA40R ,  4J100BB01R ,  4J100BB07P ,  4J100BB07R ,  4J100BB11P ,  4J100BC02S ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC12S ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BD10S ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA25 ,  4J100DA39 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 特公昭63-49893号公報
  • 液浸式投影露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社
  • 液浸型露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン
審査官引用 (7件)
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