特許
J-GLOBAL ID：200903064117711734

基板処理装置およびクリーニング方法

発明者：
周藤 賢治

周藤 賢治 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (3件)： 亀谷 美明 ,  金本 哲男 ,  萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-346181
公開番号（公開出願番号）：特開2008-159381
出願日： 2006年12月22日
公開日（公表日）： 2008年07月10日
要約：
【課題】有機材料を劣化させずにITO表面に密着して有機膜を形成する。【解決手段】基板Gは、前処理室CMにて前処理としてクリーニングされている。バルブ300を閉じることにより、有機材料が収納された空間は、処理容器PM1により画定された空間から遮断される。遮断後、クリーニング装置は、処理容器PM1内にて基板GのITO表面を最終クリーニングする。最終クリーニング後、バルブ300を開くことにより、有機材料が収納された空間は基板Gをクリーニングした空間と連通する。連通後、収納された有機材料を気化させ、気化させた有機材料を有機材料が収納された空間から基板Gをクリーニングする空間に吹き出させる。これにより、基板Gをクリーニングした処理容器PM1と同一の処理容器内にてクリーニングされた基板GのITO表面にホール輸送層(第1層の有機膜)を密着して形成する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
処理容器と、 有機材料を収納し、収納された有機材料により前記処理容器内にて被処理体に有機膜を形成する蒸着装置と、 前記処理容器と同じ処理容器内にて被処理体をクリーニングするクリーニング装置と、 開閉により前記被処理体をクリーニングする空間と前記有機材料を収納する空間とを遮断または連通する遮断機構とを備える基板処理装置。
IPC (3件)：
H05B 33/10 ,  C23C 14/02 ,  H01L 51/50
FI (3件)：
H05B33/10 ,  C23C14/02 ,  H05B33/14 A
Fターム (17件)：
3K107AA01 ,  3K107CC25 ,  3K107CC45 ,  3K107GG04 ,  3K107GG21 ,  3K107GG28 ,  3K107GG32 ,  3K107GG42 ,  3K107GG43 ,  4K029AA09 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029FA04 ,  4K029KA00
引用特許：
審査官引用 (7件)
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