感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：高松猛 , 矢澤清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-315859
公開番号（公開出願番号）：特開2008-129433
出願日： 2006年11月22日
公開日（公表日）： 2008年06月05日
要約：

【課題】パターン形状、パターン倒れが良好で、且つEUV光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。また、液浸露光においても上記性能が良好である、液浸露光に好適な感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)特定の一般式で表され、且つヘテロ原子を有する芳香族基を少なくとも1つ有する多価スルホニウム塩を含有する感光性組成物、該感光性組成物に用いられる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(I)で表され、且つヘテロ原子を有する芳香族基を少なくとも1つ有する多価スルホニウム塩を含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , G03F 7/038 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , G03F7/038 601 , H01L21/30 502R

Fターム (15件)：

2H025AA01 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AB17 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA12 , 2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (13件)

化学増幅型ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-315265 出願人：住友化学工業株式会社
特開昭57-153433号公報
パターン形成方法及びその露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-008136 出願人：株式会社日立製作所

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