リソグラフィ装置

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 森徹 , 岩本行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-157062
公開番号（公開出願番号）：特開2004-356633
出願日： 2004年05月27日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：

【課題】パターン形成したビームを基板に描像する前に、投影ビームを選択的に透過する手段を含むリソグラフィ投影装置を提供する。【解決手段】手段は、以下のいずれかを含むことができる。つまり、投影ビームの方向でパターニング手段の下流に配置された選択的透過デバイス、走査システム内の固定または可動セットのマスキングブレード、またはアレイ状の切り換え可能要素である。手段は、マスクテーブルまたはフレームまたはリソグラフィ投影装置の構造に設けることができる。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置で、 - 放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、 - パターニング手段を支持する支持構造とを備え、パターニング手段が、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、 - 基板を保持する基板テーブルと、 - パターン形成したビームを基板の目標部分に投影する装置システムとを備え、前記パターン形成したビームの一部を選択的に遮断する空間フィルタを特徴とするリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L21/027 , G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 515D , G03F7/20 521

Fターム (8件)：

5F046BA03 , 5F046BA05 , 5F046CB05 , 5F046CB09 , 5F046CB23 , 5F046CB24 , 5F046CC02 , 5F046DA01

引用特許：

審査官引用 (14件)

露光方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-021099 出願人：株式会社ニコン
特開昭62-092959
特開平3-011613

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