特許
J-GLOBAL ID：200903065215281213
パターン露光方法及びその装置並びに電子装置の製造方法及び電子装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-338868
公開番号（公開出願番号）：特開2003-142379
出願日： 2001年11月05日
公開日（公表日）： 2003年05月16日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】多品種少量のデバイスを露光する際、その都度高価なマスクやレチクルが不可欠であった。またこれらマスクから作られる製品デバイスには固有な番号や製造来歴情報を付けて、製造時、或いは市場に出た後の管理をする事が殆ど不可能であった。【解決手段】2次元光変調器の情報を露光基板に投影露光するに際して、2次元光変調器と基板を走査し、走査に伴い動く投影像のパターンが走査に伴い動く被露光基板の上で相対的に静止しているようにする。更に露光照明光が2次元光変調器上を走査することにより、露光基板の走査方向全域に渡り露光基板をほぼ一定速度で走査露光する。これにより、従来の固定パターンからなるマスクやレチクルを用いずに被露光基板全域を露光する。またこのような2次元光変調器を用いた露光により製作されたデバイスの個々の製品に固有の情報である番号、コード及び製作条件を個々のデバイスに記録する。
請求項（抜粋）：
光変調状態を制御可能な2次元光変調器を用いて2次元光情報パターンを被露光基板に投影して該被露光基板を露光するパターン露光方法であって、前記被露光基板に投影する2次元光情報パターンと前記被露光基板とを相対的に移動させながら前記被露光基板上の第1の領域を露光し、次に前記被露光基板上の第1の領域に隣接する第2の領域に前記被露光基板に投影する2次元光情報パターンと前記被露光基板とを相対的に移動させながら前記被露光基板上の第2の領域を露光することを特徴とするパターン露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G02F 1/13 505
, G03F 7/22
G02F 1/13 505
, G03F 7/22 H
, H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 518
, H01L 21/30 529
2H088EA22
, 2H088EA44
, 2H088HA20
, 2H088HA21
, 2H088HA25
, 2H088HA28
, 2H088MA20
, 5F046AA16
, 5F046AA28
, 5F046BA05
, 5F046CB01
, 5F046CC15
, 5F046DD03
