特許
J-GLOBAL ID：200903065311116258
反射防止コーティング用組成物およびパターン形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
鐘尾 宏紀
, 野口 武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-195582
公開番号（公開出願番号）：特開2004-037887
出願日： 2002年07月04日
公開日（公表日）： 2004年02月05日
要約：
【課題】フォトレジスト膜内における多重反射光の干渉によりもたらされるパターン寸法精度の低下を防止し、且つ化学増幅型レジストと反射防止膜とのインターミキシングなどにより引き起こされる、エッチング工程に不都合なT-トップ、ラウンドトップなどのパターン形状の劣化を起こさないレジストパターンを形成することのできる反射防止コーティング用組成物を提供する。【解決手段】アルカリ可溶性フッ素系重合体、酸、アミン、およびこれらを溶解することのできる溶媒を含有し、pH7以下の反射防止コーティング用組成物。この組成物を化学増幅型フォトレジスト膜上に塗布し、反射防止膜とすることにより、反射防止機能によりフォトレジスト膜内の多重反射が防止できるとともに、露光後アルカリ現像液により現像する際フォトレジスト膜の膜減り量が増大し、矩形状のレジストパターンが形成される。
請求項（抜粋）：
フッ素系重合体、酸、アミン、およびこれらを溶解することのできる水性溶媒を含有し、pH7以下の組成物であることを特徴とする反射防止コーティング用組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/11 501
, H01L21/30 574
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025DA34
, 5F046PA17
, 5F046PA19
