特許
J-GLOBAL ID：200903065577439966

気泡発生防止機構およびそれを用いた液処理装置、ならびに液供給機構

発明者：
立山 清久

立山 清久 について

, 
鎮守 隆之

鎮守 隆之 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-122793
公開番号（公開出願番号）：特開平10-303116
出願日： 1997年04月28日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：
【要約】【課題】 処理液通流を停止しても処理液中に気泡が発生することを防止できる気泡発生防止機構及びそれを用いた液処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 処理液通流の停止の際に処理液の慣性により処理液がノズル側に輸送されても、ベローズ85が処理液の慣性に対応して縮んで、処理液管路84内の体積を減少させ、これにより、エアオペバルブ81の下流で減圧状態となることを回避することができる。従って、エアオペバルブ81の下流において減圧状態から常圧状態に戻る際に気泡が発生することを防止する。
請求項（抜粋）：
被処理体に処理液を供給する際に処理液中に気泡が生じることを防止する気泡発生防止機構であって、処理液を処理液供給系から被処理体に通流させる処理液流路と、前記処理液流路に設けられ、前記処理液流路における被処理体供給系側と被処理体側との処理液通流の開始・停止を行う開閉手段と、前記処理液通流を停止したときに前記開閉手段の開閉部分よりも被処理体側における圧力変化を緩和する気泡発生防止部と、を具備することを特徴とする気泡発生防止機構。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501 ,  B05C 11/08
FI (4件)：
H01L 21/30 564 Z ,  G03F 7/30 501 ,  B05C 11/08 ,  H01L 21/30 569 A
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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