特許
J-GLOBAL ID：200903065954429938

載置台構造、これを用いた処理装置及びこの装置の使用方法

発明者：
川村 剛平

川村 剛平 について

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小林 保男

小林 保男 について

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野沢 俊久

野沢 俊久 について

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石橋 清隆

石橋 清隆 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-031171
公開番号（公開出願番号）：特開2008-198739
出願日： 2007年02月09日
公開日（公表日）： 2008年08月28日
要約：
【課題】被処理体のエッジ部の側面のみならず、裏面(下面)側にも成膜等の処理を施すことが可能な載置台構造を提供する。【解決手段】真空引き可能になされた処理容器44内に処理ガスを供給して被処理体Wに対して処理を施すために前記処理容器44内で前記被処理体を載置して支持するための載置台構造において、前記被処理体を載置する載置面を有する載置台本体50と、前記被処理体の移載時に前記被処理体を突き上げるために昇降可能になされた昇降ピン機構106と、前記被処理体を前記載置台本体上に載置している時に前記被処理体の周辺のエッジ部38の下面を前記処理ガスに晒すために前記載置面に形成されたエッジ露出用段部122とを有する。これにより、被処理体のエッジ部の側面のみならず、裏面(下面)側にも成膜等の処理を施す。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
真空引き可能になされた処理容器内に処理ガスを供給して被処理体に対して処理を施すために前記処理容器内で前記被処理体を載置して支持するための載置台構造において、 前記被処理体を載置する載置面を有する載置台本体と、 前記被処理体の移載時に前記被処理体を突き上げるために昇降可能になされた昇降ピン機構と、 前記被処理体を前記載置台本体上に載置している時に前記被処理体の周辺のエッジ部の下面を前記処理ガスに晒すために前記載置面に形成されたエッジ露出用段部と、 を有することを特徴とする載置台構造。
IPC (6件)：
H01L 21/205 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/458 ,  C23C 16/511 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/683
FI (6件)：
H01L21/205 ,  H01L21/302 101G ,  C23C16/458 ,  C23C16/511 ,  C23C16/52 ,  H01L21/68 R
Fターム (26件)：
4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA01 ,  4K030GA02 ,  4K030GA12 ,  4K030KA41 ,  4K030LA15 ,  5F004BA04 ,  5F004BB13 ,  5F004BB14 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031HA09 ,  5F031HA16 ,  5F031HA33 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031NA05 ,  5F045AA08 ,  5F045AF01 ,  5F045BB19 ,  5F045DP04 ,  5F045DQ10 ,  5F045EM07
引用特許：
出願人引用 (5件)
  • 特開平3-191073号公報
  • プラズマ発生装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-147795   出願人：株式会社日立製作所
  • プラズマ処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-153357   出願人：東京エレクトロン株式会社, 後藤尚久, 安藤真, 高田潤一, 堀池靖浩
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審査官引用 (9件)
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