特許
J-GLOBAL ID:200903067140222480

ポジ型感光性樹脂組成物及びレリーフパターンの製造法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 若林 邦彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-339816
公開番号(公開出願番号):特開平11-174678
出願日: 1997年12月10日
公開日(公表日): 1999年07月02日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 活性光線に対する感度が高く、現像液としてアルカリ水溶液を用いて良好なパターンの形成ができるポジ型感光性樹脂組成物及び活性光線で露光し、アルカリ現像液を用いて現像して、良好なレリーフパターンを形成する。【解決手段】 (式中R1は4価の有機基、R2及びR3は炭化水素基、R4はフェノール性水酸基又はカルボキシル基を有する2価の有機基)で示される反復単位を含むポリアミド酸エステル及び(B)光により酸を発生する化合物を含むポジ型感光性樹脂組成物であって、この樹脂組成物から形成される膜のアルカリ水溶液に対する溶解速度が30nm/秒以下であり、かつ同一塗布乾燥条件で活性光線を700mJ/cm2照射した時の溶解速度が80nm/秒以上であるポジ型感光性樹脂組成物並びにこの樹脂組成物を基板上に塗布し、乾燥後、活性光線照射を行い、アルカリ水溶液で現像し、次いで加熱処理するレリーフパターンの製造法。
請求項(抜粋):
(A)一般式(I)【化1】(但し、式中R1は4価の有機基、R2及びR3は炭化水素基、R4はフェノール性水酸基又はカルボキシル基を少なくとも1個有する2価の有機基)で示される反復単位を含むポリアミド酸エステル及び(B)光により酸を発生する化合物を含むポジ型感光性樹脂組成物であって、該ポジ型感光性樹脂組成物を塗布乾燥して形成される膜のアルカリ水溶液に対する溶解速度が30nm/秒以下であり、かつ同一塗布乾燥条件で塗布乾燥して形成される膜に活性光線を700mJ/cm2照射した膜の前記アルカリ水溶液に対する溶解速度が80nm/秒以上であるポジ型感光性樹脂組成物。
IPC (5件):
G03F 7/039 501 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027
FI (5件):
G03F 7/039 501 ,  G03F 1/08 A ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許:
審査官引用 (34件)
  • 特開平3-158856
  • 特表平7-500932
  • 特開平3-158856
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