特許
J-GLOBAL ID：200903067265919319
ステージ組立体、そのようなステージ組立体を含む粒子光学装置、及び、そのような装置において試料を処理する方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
伊東 忠彦
, 大貫 進介
, 伊東 忠重
, 永坂 均
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-286486
公開番号（公開出願番号）：特開2007-129214
出願日： 2006年10月20日
公開日（公表日）： 2007年05月24日
要約：
【課題】試料がデュアルビーム粒子光学装置においてより均一に処理されることを可能にするステージ組立体を提供する。【解決手段】ステージ組立体は、第一軸A1に沿う第一照射ビームEを発生するための第一源と、ビーム交差地点で前記第一軸と交差する第二軸A2に沿う第二照射ビームIを発生するための第二源と、試料を載置し得る試料テーブル21と、基準面に対して垂直なX軸、基準面と平行なY軸、及び、基準面と平行なZ軸と実質的に平行な方向に沿って前記試料テーブルの平行移動をもたらすために配置された一組のアクチュエータとを備え、該一組のアクチュエータは、Z軸と実質的に平行な回転軸RAについての試料テーブル21の回転と、Z軸に対して実質的に垂直なフリップ軸FAについての試料テーブルの回転とをもたらすようさらに配置されること。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
試料を基準点の近傍に配置するためのステージ組立体であり、
前記試料を載置し得る試料テーブルと、
基準面に対して垂直なX軸、前記基準面と平行なY軸、及び、前記基準面と平行なZ軸と実質的に平行な方向に沿って前記試料テーブルの平行移動をもたらすために配置された一組のアクチュエータとを備え、前記X軸、前記Y軸、及び、前記Z軸は相互に直交し、且つ、前記基準点を通過するステージ組立体であって、
前記一組のアクチュエータは、
前記Z軸と実質的に平行な回転軸についての前記試料テーブルの回転と、
前記Z軸に対して実質的に垂直なフリップ軸についての前記試料テーブルの回転とをもたらすようさらに配置されることによって、前記フリップ軸自体が、前記回転軸について回転され得ることを特徴とするステージ組立体。
IPC (4件)：
H01L 21/683
, H01L 21/027
, H01J 37/20
, G01N 1/28
H01L21/68 N
, H01L21/30 502V
, H01J37/20 D
, G01N1/28 F
2G052AA13
, 2G052AD32
, 2G052AD52
, 2G052DA33
, 2G052EC14
, 2G052EC18
, 2G052EC22
, 2G052GA34
, 2G052GA35
, 5C001AA03
, 5C001AA04
, 5C001AA06
, 5C001CC04
, 5F031CA02
, 5F031HA57
, 5F031HA58
, 5F031HA59
, 5F031JA27
, 5F031MA31
, 5F031MA33
, 5F031PA30
