磁性膜作成装置及びGMRヘッド又はTMRヘッドの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：保立浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-219891
公開番号（公開出願番号）：特開2002-043159
出願日： 2000年07月19日
公開日（公表日）： 2002年02月08日
要約：

【要約】【課題】 GMRヘッド等の製造の際の磁性膜の作成において、対象物の表面付近にその表面に沿って磁界を印加しながら、作成する磁性膜中への不純物の混入を少なくする。【解決手段】 GMRヘッド又はTMRヘッドを製造する際、スパッタチャンバー1内に対象物である基板8を配置し、スパッタリングにより基板8の表面に磁性膜を作成する。成膜の際に基板8の表面付近にその表面に沿った特定の向きの磁界を印加してその特定の向きにのみ磁化され易い性質を付与する容易軸付与用磁界発生装置7が、スパッタチャンバー1の外に設けられている。成膜中に基板8を回転させる回転機構33が設けられており、この回転機構33は、容易軸付与用磁界発生装置7と基板8とを一体に回転させる。

請求項（抜粋）：

対象物の表面に磁性膜を作成する磁性膜作成装置であって、対象物の表面付近にその表面に沿った特定の向きの磁界を印加してその特定の向きにのみ磁化され易い性質を磁性膜に付与する容易軸付与用磁界発生装置が、成膜チャンバーの外に設けられていることを特徴とする磁性膜作成装置。

IPC (7件)：

H01F 41/18 , C23C 14/14 , G11B 5/39 , H01F 10/08 , H01F 10/26 , H01L 43/08 , H01L 43/12

FI (7件)：

H01F 41/18 , C23C 14/14 F , G11B 5/39 , H01F 10/08 , H01F 10/26 , H01L 43/08 Z , H01L 43/12

Fターム (20件)：

4K029AA24 , 4K029BA26 , 4K029BC06 , 4K029BD11 , 4K029DC00 , 4K029JA02 , 5D034BA03 , 5D034BA05 , 5D034CA08 , 5D034DA04 , 5D034DA05 , 5D034DA07 , 5E049AA04 , 5E049AA07 , 5E049AA09 , 5E049AC05 , 5E049BA12 , 5E049DB04 , 5E049DB12 , 5E049GC01

引用特許：

審査官引用 (13件)

特開平4-116154
スパッタリング装置および成膜方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-310639 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
セルフスパッタリング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-310641 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド

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