特許
J-GLOBAL ID：200903068345204279
光学媒質の光入出射部処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (2件)：
西川 惠清
, 森 厚夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-149918
公開番号（公開出願番号）：特開2004-354535
出願日： 2003年05月27日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：
【課題】簡便な設備で光伝播効率を高める処理を低コストで行うことができる上に光学媒質が小さくても容易に処理を行うことができるものとする。【解決手段】屈折率が異なる2つの光学媒質の界面に周期的構造の微細凹凸形状を設けるにあたり、光学媒質に対するレーザアブレーション用にパルス幅が1ps以下の超高強度パルスレーザを用いてその加工エネルギー密度に応じた周期的構造の微細凹凸形状を光学媒質表面に形成する。光反射損失の低減に有効な微細凹凸形状の形成を非接触で簡便に行うことができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
屈折率が異なる2つの光学媒質の界面に周期的構造の微細凹凸形状を設けるにあたり、光学媒質に対するレーザアブレーション用にパルス幅が1ps以下の超高強度パルスレーザを用いてその加工エネルギー密度に応じた周期的構造の微細凹凸形状を光学媒質表面に形成することを特徴とする光学媒質の光入出射部処理方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (2件)
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