特許
J-GLOBAL ID:200903070141082861

被検査基板の検査システム及び被検査基板の検査方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 吉武 賢次 ,  永井 浩之 ,  岡田 淳平 ,  勝沼 宏仁
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-054669
公開番号(公開出願番号):特開2007-334296
出願日: 2007年03月05日
公開日(公表日): 2007年12月27日
要約:
【課題】位相差層に発生する位相差ムラを効率よく検出することができる被検査基板の検査システムと、被検査基板の検査方法を提供すること。【解決手段】本発明の検査システムは、位相差層3を有する被検査基板を検査するためのものである。検査システムは、偏光光を照射する偏光光源50と、観察側に配置された観察側偏光板20とを備えている。検査システムは、偏光光源50と観察側偏光板20との間に、偏光光源50からの偏光光が照射されるよう被検査基板を配置し、観察側偏光板20又は被検査基板のうち、少なくとも一方は、偏光光源50に対して、その配置位置が可変となっている。【選択図】図2
請求項(抜粋):
位相差層を有する被検査基板の検査システムにおいて、 偏光光を照射する偏光光源と、 観察側に配置された観察側偏光板とを備え、 偏光光源と観察側偏光板との間に、偏光光源からの偏光光が照射されるよう被検査基板を配置し、 観察側偏光板又は被検査基板のうち、少なくとも一方は、偏光光源に対して、その配置位置が可変となることを特徴とする被検査基板の検査システム。
IPC (1件):
G02B 5/30
FI (1件):
G02B5/30
Fターム (3件):
2H049BA02 ,  2H049BC01 ,  2H049BC22
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (8件)
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