基板処理装置

発明者： , , , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-073887
公開番号（公開出願番号）：特開平11-274035
出願日： 1998年03月23日
公開日（公表日）： 1999年10月08日
要約：

【要約】【課題】電子ビーム描画装置によりマスクを描画する際の搬送過程において、クリーン度の低い雰囲気中に暴露しないで、常に局所的にクリーン度が保たれた環境に維持することを可能にし、少量多品種のマスクを効率良く生産する。【解決手段】電子ビーム描画装置において、複数枚の基板27を収納するキャリア1を内包した第1の試料ケース2と、1枚の基板27を収納する第2の試料ケース3と、ケース2,3をクリーンな雰囲気で開けた状態で、ケース2と3との間で基板27を受け渡すクリーンロボット4と、ケース3を搬送・搬出可能で、かつ内部空間を大気化・真空化することが可能なI/Oチャンバ10と、チャンバ10が大気の状態で、レチクルマネジメントシステム5とチャンバ10との間でケース3を受け渡す搬送機構11と、チャンバ10が真空の状態で、ケース3と描画処理室12との間で基板27を受け渡す真空ロボット14とを備えた。

請求項（抜粋）：

複数枚の基板を収納可能な試料キャリアを内包し、内部のクリーン度を維持することが可能な第1の試料ケースと、任意サイズの1枚の基板を収納可能で、一部に通気性のあるフィルタを有し、内部のクリーン度を維持することが可能な第2の試料ケースと、前記各試料ケースをクリーンな雰囲気で開けた状態で、第1の試料ケースと第2の試料ケースとの間で基板を受け渡す第1の基板搬送機構と、外空間と接している第1のゲートバルブと真空に保たれた基板処理室と接している第2のゲートバルブとを有し、第2の試料ケースを搬送・搬出可能で、かつ内部空間を大気化・真空化することが可能なI/Oチャンバと、第2のゲートバルブが閉で、第1のゲートバルブが開となる前記I/Oチャンバ内が大気の状態で、第1の基板搬送システム上の所定位置と前記I/Oチャンバ内の所定位置との間で第2の試料ケースを受け渡す第2の基板搬送機構と、第1のゲートバルブが閉で、第2のゲートバルブが開となる前記I/Oチャンバが真空の状態で、第2の試料ケースと前記基板処理室内のステージとの間で基板を受け渡す第3の基板搬送機構とを具備してなることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , H01L 21/02 , H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/30 541 L , H01L 21/02 Z , H01L 21/68 A

引用特許：

審査官引用 (11件)

半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-146868 出願人：キヤノン株式会社
特開昭62-106628
特開平2-020040

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