特許
J-GLOBAL ID：200903071004121147

フォトレジスト組成物、フォトレジスト組成物の塗布方法およびレジストパターンの形成方法

発明者：
池本 準

池本 準 について

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島倉 純一

島倉 純一 について

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高野 聖史

高野 聖史 について

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松尾 二郎

松尾 二郎 について


出願人/特許権者：
AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社

AZエレクトロニックマテリアルズ株式会社 について

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大日本インキ化学工業株式会社

大日本インキ化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 鐘尾 宏紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-259066
公開番号（公開出願番号）：特開2008-076980
出願日： 2006年09月25日
公開日（公表日）： 2008年04月03日
要約：
【課題】塗布時、筋斑などの形成のないLCD-TFT基板製造用吐出ノズル式塗布法フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)感光剤、および(C)一般式(1):CH2=CR1COOCH2CH2C8F17(式中、R1は水素原子又はメチル基)で表されるフッ素化アルキル基含有単量体(m1)と、一般式(2):CH2=CR2COO(C3H6O)nH(式中、R2は水素原子又はメチル基、nは分布の平均値として4〜7)で表されるポリオキシプロピレン鎖含有単量体(m2)からなる単量体混合物(m)を重合して得られる共重合体(P)であって、前記単量体混合物(m)中の前記単量体(m1)および(m2)の混合比(m1)/(m2)が25/75〜40/60(重量比)であり、且つ前記共重合体(P)の重量平均分子量が3,000〜10,000であるフッ素系界面活性剤を含有する吐出ノズル式塗布法用フォトレジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)アルカリ可溶性樹脂、 (B)感光剤、および (C)一般式(1): CH2=CR1COOCH2CH2C8F17・・・・・・(1) (式中、R1は水素原子又はメチル基である。) で表されるフッ素化アルキル基含有単量体(m1)と、 一般式(2): CH2=CR2COO(C3H6O)nH・・・・・・・・(2) (式中、R2は水素原子又はメチル基であり、nは分布の平均値として4〜7である。) で表されるポリオキシプロピレン鎖含有単量体(m2)からなる単量体混合物(m)を重合して得られる共重合体(P)であって、前記単量体混合物(m)中の前記単量体(m1)および(m2)の混合比(m1)/(m2)が25/75〜40/60(重量比)であり、且つ前記共重合体(P)の重量平均分子量が3,000〜10,000であるフッ素系界面活性剤 を含有することを特徴とする、LCD-TFT基板製造用吐出ノズル式塗布法フォトレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/023 ,  G03F 7/16 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28
FI (5件)：
G03F7/004 504 ,  G03F7/023 511 ,  G03F7/16 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28
Fターム (18件)：
2H025AA18 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB29 ,  2H025CB52 ,  2H025CC04 ,  2H025EA04 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA08P ,  4J100BB18Q ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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