特許
J-GLOBAL ID：200903071022219677

真空容器及びその製造方法

発明者：
大園 俊一

大園 俊一 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-160569
公開番号（公開出願番号）：特開2001-102365
出願日： 2000年05月30日
公開日（公表日）： 2001年04月13日
要約：
【要約】【課題】ハロゲン系腐食性ガスとの反応によって生成されるハロゲン化物などの反応生成物がパーティクルとして剥がれ落ちるまでの時間を長くして、定期的に行うメンテナンス回数を減らすことにより稼働効率を高めることのできる真空容器を提供する。【解決手段】チャンパやベルジャをなす真空容器の少なくともハロゲン系腐食性ガス及び、又はプラズマに曝される部位を、イツトリアとアルミナの化合物を主成分とする焼結体で形成し、その内壁面に表面粗さがRa1.5〜10μmの粗面部を備える。
請求項（抜粋）：
成膜装置やエッチング装置等における真空容器であって、腐食性ガスやプラズマに曝される部位がイットリアとアルミナの化合物を主成分とする焼結体からなり、その内面に表面粗さ(Ra)が1.5〜10μmの粗面部を備えたことを特徴とする真空容器。
IPC (6件)：
H01L 21/3065 ,  B01J 3/00 ,  C04B 35/44 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46
FI (6件)：
B01J 3/00 K ,  C04B 35/44 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46 L ,  H01L 21/302 B
Fターム (29件)：
4G031AA07 ,  4G031AA08 ,  4G031AA12 ,  4G031AA29 ,  4G031BA01 ,  4G031BA26 ,  4G031GA06 ,  4G031GA15 ,  4K057DA19 ,  4K057DD01 ,  4K057DD03 ,  4K057DM01 ,  4K057DM29 ,  4K057DN01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB14 ,  5F004BB29 ,  5F004BB30 ,  5F004BD04 ,  5F004DA00 ,  5F004DA04 ,  5F004DA18 ,  5F045AA09 ,  5F045BB15 ,  5F045DP03 ,  5F045EB03 ,  5F045EC05 ,  5F045EH11
引用特許：
審査官引用 (10件)
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