めっき装置及び方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡邉勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-341014
公開番号（公開出願番号）：特開2002-038297
出願日： 2000年11月08日
公開日（公表日）： 2002年02月06日
要約：

【要約】【課題】めっき処理及びそれに付帯する処理を連続的に行う各ユニット(機器)を同一設備内に効率的に配置して占有面積を減少させ、しかもめっき処理等に使用する薬品による基板の汚染を防止できるようにしためっき装置及び方法を提供する。【解決手段】設備10内に、基板を収納するカセットを載置するカセットステージ15と、基板の表面の前処理を行う前処理ユニット21と、該前処理ユニット21で前処理した基板の表面にめっきを施すめっき処理ユニット22が収容され、カセットステージ15と前処理ユニット21との間に、基板を載置する第1基板ステージ23a,23bと、めっき後の基板を純水で洗浄し乾燥する洗浄・乾燥装置16が配置され、各機器間で基板を搬送する搬送装置17,24が設備10内に備えられている。

請求項（抜粋）：

めっき処理及びそれに付帯する処理を同一設備内で連続的に行って基板の表面に金属膜付けを行うめっき装置であって、前記設備内に、基板を収納するカセットを載置するカセットステージと、基板の表面の前処理を行う前処理ユニットと、該前処理ユニットで前処理した基板の表面にめっきを施すめっき処理ユニットが収容され、前記カセットステージと前処理ユニットとの間に、基板を載置する第1基板ステージと、めっき後の基板を純水で洗浄し乾燥する洗浄・乾燥装置が配されるとともに、該第1基板ステージが前記洗浄・乾燥装置よりも前記前処理ユニット側に位置して配置され、前記カセット、洗浄・乾燥装置及び第1基板ステージ間で基板を搬送する第1搬送装置と、前記第1基板ステージ、前処理ユニット及びめっき処理ユニット間で基板を搬送する第2搬送装置とが前記設備内に備えられていることを特徴とするめっき装置。

IPC (12件)：

C25D 7/12 , C25D 5/08 , C25D 5/48 , C25D 17/00 , C25D 17/06 , C25D 17/08 , C25D 17/10 101 , C25D 21/00 , C25D 21/10 302 , H01L 21/285 301 , H01L 21/288 , H01L 21/3205

FI (17件)：

C25D 7/12 , C25D 5/08 , C25D 5/48 , C25D 17/00 B , C25D 17/00 G , C25D 17/00 K , C25D 17/06 C , C25D 17/08 A , C25D 17/10 101 B , C25D 21/00 A , C25D 21/00 D , C25D 21/00 Z , C25D 21/10 302 , H01L 21/285 301 Z , H01L 21/288 E , H01L 21/88 M , H01L 21/88 K

Fターム (39件)：

4K024AA09 , 4K024BB12 , 4K024CB01 , 4K024CB02 , 4K024CB03 , 4K024CB04 , 4K024CB06 , 4K024CB08 , 4K024CB13 , 4K024CB14 , 4K024CB18 , 4K024CB19 , 4K024CB24 , 4K024CB26 , 4K024DB10 , 4M104BB04 , 4M104BB30 , 4M104DD16 , 4M104DD37 , 4M104DD52 , 4M104DD75 , 4M104FF09 , 4M104FF18 , 5F033HH11 , 5F033HH33 , 5F033JJ11 , 5F033JJ33 , 5F033MM02 , 5F033MM12 , 5F033MM13 , 5F033NN06 , 5F033NN07 , 5F033PP15 , 5F033PP27 , 5F033QQ09 , 5F033QQ37 , 5F033QQ48 , 5F033RR04 , 5F033XX34

引用特許：

審査官引用 (9件)

基板のめっき方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-136152 出願人：株式会社荏原製作所, 荏原ユージライト株式会社
基板メッキ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-205138 出願人：株式会社荏原製作所
研磨装置および研磨方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-258008 出願人：住友金属工業株式会社

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