特許
J-GLOBAL ID：200903073575664876

レジスト塗布装置、レジスト塗布システムおよび記録媒体

発明者：
光田 康行

光田 康行 について

, 
和田 卓也

和田 卓也 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-293445
公開番号（公開出願番号）：特開2002-110504
出願日： 2000年09月27日
公開日（公表日）： 2002年04月12日
要約：
【要約】【課題】 正確にしかも効率良くレシピに記述されている処理条件を修正することができるレジスト塗布装置を提供する。【解決手段】 各スピンプログラムと、そのスピンプログラムにおける最終的なレジスト膜厚を決定するステップと、そのスピンプログラムにおける目標膜厚とを関連付けたスピンライブラリを設定する。その後、基板回転数と膜厚との相関関係を実測し、得られた実測結果を装置に入力する。装置の制御部は、全てのスピンプログラムのについて、実測結果に基づいて各スピンプログラムの目標膜厚に対応する目標基板回転数を算出し、各スピンプログラムの対象ステップに記述されている基板回転数を算出した目標基板回転数に更新する。
請求項（抜粋）：
処理条件を記述したレシピに従って基板にレジストを塗布するレジスト塗布装置であって、それぞれが異なる処理条件を記述した複数のレシピを記憶する記憶手段と、実測値に基づいて、前記複数のレシピのそれぞれに記述されている処理条件を修正する処理条件修正手段と、を備えることを特徴とするレジスト塗布装置。
IPC (7件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/40 ,  B05D 3/00 ,  B05D 7/00 ,  G03F 7/16 502
FI (7件)：
B05C 11/08 ,  B05C 11/10 ,  B05D 1/40 A ,  B05D 3/00 D ,  B05D 7/00 H ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 C
Fターム (16件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025EA05 ,  4D075AC64 ,  4D075AC92 ,  4D075AC94 ,  4D075DA06 ,  4D075DC21 ,  4D075EA45 ,  4F042AA07 ,  4F042BA05 ,  4F042BA25 ,  4F042EB00 ,  5F046JA13 ,  5F046JA21 ,  5F046JA27
引用特許：
審査官引用 (10件)
  • 膜厚制御方法および装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-061520   出願人：リソテックジャパン株式会社
  • 回転式基板塗布装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-183285   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • レジスト吐出方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-017762   出願人：東京エレクトロン株式会社
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