特許
J-GLOBAL ID：200903073701635232

浮上式基板搬送処理装置

発明者：
山崎 剛

山崎 剛 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-061510
公開番号（公開出願番号）：特開2005-247516
出願日： 2004年03月05日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：
【課題】 装置の小型化及び簡略化を図り、かつ、処理効率の向上を図れるようにした浮上式基板搬送処理装置を提供すること。【解決手段】 表面から気体を噴射又は噴射及び吸引して基板Gを異なる高さに浮上する浮上ステージ22と、浮上ステージ22の上方に配設され、基板Gの表面に処理液を帯状に供給するレジスト供給ノズル23と、浮上ステージ22上に浮上する基板Gの両側縁部を支持して、基板Gをレジスト供給ノズル23の下方を通過させる搬送ローラ24とを設ける。これにより、浮上ステージ上に浮上される基板の両側端部を搬送ローラによって支持して、基板をレジスト供給ノズルの下方に移動しつつレジスト供給ノズルから処理液を帯状に供給して処理を施すことができる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
表面から気体を噴射又は噴射及び吸引して被処理基板を異なる高さに浮上する浮上ステージと、 上記浮上ステージの上方に配設され、上記被処理基板の表面に処理液を帯状に供給する処理液供給手段と、 上記浮上ステージ上に浮上する上記被処理基板の両側縁部を支持して、被処理基板を上記処理液供給手段の下方を通過させる搬送ローラと、を具備することを特徴とする浮上式基板搬送処理装置。
IPC (6件)：
B65G49/06 ,  B05C5/02 ,  B05C13/02 ,  B08B3/02 ,  G03F7/16 ,  H01L21/68
FI (6件)：
B65G49/06 Z ,  B05C5/02 ,  B05C13/02 ,  B08B3/02 C ,  G03F7/16 501 ,  H01L21/68 A
Fターム (39件)：
2H025AA18 ,  2H025AB20 ,  2H025DA19 ,  2H025DA20 ,  2H025EA04 ,  3B201AA01 ,  3B201AB01 ,  3B201AB42 ,  3B201BB22 ,  3B201BB92 ,  4F041AA02 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041CA02 ,  4F042AA02 ,  4F042AA06 ,  4F042AA10 ,  4F042AB00 ,  4F042BA08 ,  4F042BA25 ,  4F042DF10 ,  4F042DF19 ,  5F031CA05 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA13 ,  5F031GA53 ,  5F031HA33 ,  5F031HA48 ,  5F031HA57 ,  5F031HA60 ,  5F031HA80 ,  5F031LA03 ,  5F031LA12 ,  5F031LA13 ,  5F031LA14 ,  5F031MA03 ,  5F031MA26
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 塗布膜形成装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-331663   出願人：東京エレクトロン株式会社
審査官引用 (11件)
  • 単板連続塗布装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-099740   出願人：凸版印刷株式会社
  • 基板搬送装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-154747   出願人：株式会社日立製作所
  • 薄板基板の搬送装置及び搬送方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-094913   出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
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