特許
J-GLOBAL ID：200903074001313745

描画装置

発明者：
奥山 隆志

奥山 隆志 について


出願人/特許権者：
ペンタックス株式会社

ペンタックス株式会社 について


代理人 (2件)： 松浦 孝 ,  小倉 洋樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-115065
公開番号（公開出願番号）：特開2005-300804
出願日： 2004年04月09日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】 基板を連続的に搬送させている間に基板の位置ずれが生じてもパターンずれを生じず、高解像度のパターンを形成させる。【解決手段】 4つの露光ヘッド12A〜12Dを基板SW上方に配置し、露光ヘッド12A〜12Dによる露光エリアEA1〜EA4を、基板SW上に規定される走査バンドS1〜S4に沿って相対移動させる。そして、露光ヘッド12A〜12Dにそれぞれ設けられた4つのDMDを、露光エリアEA1〜EA4の相対位置に応じて独立制御し、パターンに応じた露光動作を実行する。位置ずれ計測センサ17A〜17Dは、基板SWのそれぞれの場所における位置ずれを検出する。走査バンドS3において変位量を検出した場合、分割パターンデータを変位量に応じてデータシフトさせ、DMDの描画エリアを変位量に応じてシフトさせる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
パターン形成のため光を放射する光源と、 複数の光変調素子を規則的に配列させ、前記光源からの光を前記複数の光変調素子の位置に応じて感材へ投影する光変調ユニットと、 前記複数の光変調素子の配列に応じたデータ配列をもつ描画データに基づいて、前記複数の光変調素子をそれぞれ独立制御する描画手段と、 前記光変調ユニットによる露光エリアが前記感材に対して相対移動するときに走査方向に直交する変位方向に沿って生じる前記露光エリアの前記感材に対する相対的な位置ずれに従い、描画の補正処理を実行する描画補正手段とを備え、 前記描画手段が、前記光変調ユニットの全体照射エリアよりサイズの小さい描画エリアを規定し、前記描画エリア内に配置された光変調素子によって描画し、 前記描画補正手段が、位置ずれの変位量に基づき、位置ずれを補正する方向に向けて前記描画データと描画エリアとをそれぞれシフトさせることを特徴とする描画装置。
IPC (2件)：
G03F7/20 ,  G03F9/00
FI (2件)：
G03F7/20 505 ,  G03F9/00 A
Fターム (9件)：
2H097AA03 ,  2H097AB05 ,  2H097CA06 ,  2H097CA17 ,  2H097DB07 ,  2H097DB12 ,  2H097KA29 ,  2H097LA03 ,  2H097LA09
引用特許：
出願人引用 (11件)
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